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        ICP-MS|萊伯泰科精彩亮相“2023光刻膠及聚酰亞胺先進(jìn)技術(shù)和產(chǎn)業(yè)應(yīng)用研討會(huì)

        更新時(shí)間:2023-08-03      點(diǎn)擊次數(shù):1323

                2023年5 月 26 日,萊伯泰科受電子化工新材料產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟的邀請(qǐng),出席江蘇常州“2023•光刻膠及聚酰亞胺先進(jìn)技術(shù)和產(chǎn)業(yè)應(yīng)用研討會(huì)”,大會(huì)上萊伯泰科帶來半導(dǎo)體領(lǐng)域解決方案,并與行業(yè)內(nèi)各位專家進(jìn)行熱切討論。

        光刻會(huì)場(chǎng) 

        會(huì)議圖片

        光刻是半導(dǎo)體制造微圖形工藝的核心,光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的 35%。目前國(guó)內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)仍處于發(fā)展起步階段,高端半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)仍被日本和美國(guó)公司壟斷,國(guó)產(chǎn)替代率較低。

        2021年5月20日,萊伯泰科重磅發(fā)布LabMS 3000電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,強(qiáng)勢(shì)進(jìn)軍半導(dǎo)體行業(yè)。2023年3月10日,萊伯泰科隆重推出針對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)研發(fā)生產(chǎn)的LabMS 5000 ICP-MS/MS電感耦合等離子體質(zhì)譜,致力于為半導(dǎo)體行業(yè)用戶提供更加精準(zhǔn)、高效的解決方案。

        img2 

        電感耦合等離子體質(zhì)譜儀LabMS 3000 ICP-MS

        img3 

        LabMS 5000 電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀(ICP-MS/MS)

         

         

        萊伯泰科作為主要國(guó)產(chǎn)儀器廠商之一,在分析儀器領(lǐng)域已深耕20年,始終堅(jiān)守在推動(dòng)我國(guó)科學(xué)儀器發(fā)展的前線近些年萊伯泰科在質(zhì)譜創(chuàng)新之路的進(jìn)展加速著國(guó)產(chǎn)替代的進(jìn)程,以實(shí)際行動(dòng)助力我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)健康穩(wěn)步發(fā)展實(shí)現(xiàn)高水平科技自立自強(qiáng)。

        光刻萊伯泰科展臺(tái)2 

        萊伯泰科展臺(tái)

         

         

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